鍍膜儀具有一路高精度質(zhì)量流量計(jì)，客戶(hù)若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計(jì)的氣路，以滿(mǎn)足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求；儀器標(biāo)配先進(jìn)的渦輪分子泵組，極限真空可達(dá)10E-5Pa，同時(shí)另有其他類(lèi)型的分子泵可供選購(gòu)。分子泵的氣路由多個(gè)電磁閥控制，可以實(shí)現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開(kāi)腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機(jī)工控電腦對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行控制，在電腦程序上可以實(shí)現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進(jìn)一步提高您的實(shí)驗(yàn)效率。

用途：單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

產(chǎn)品名稱(chēng)	單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）
產(chǎn)品型號(hào)	TN-MSP300S-RF
特點(diǎn)	自主研發(fā)、高性?xún)r(jià)比 標(biāo)準(zhǔn)2英寸磁控濺射頭 射頻電源，非金屬膜、光學(xué)膜 高精度質(zhì)量流量計(jì) 渦輪分子泵組，極限真空可達(dá)10E-5Pa 一體機(jī)電腦操作
參數(shù)	1、樣品臺(tái)：尺寸φ150mm；  加熱溫度 maxtemp：500℃；控溫精度：±1℃；轉(zhuǎn)速：1-20rpm可調(diào) 2、磁控濺射頭：2” ×1 （1”,2”,3”可選）10L/min流速的循環(huán)水冷  3、真空腔體：尺寸：φ300mm × 340mm 材料：不銹鋼、上頂開(kāi)式， 觀察窗口：φ100mm 4、質(zhì)量流量計(jì)：1路；量程200SCCM；Ar（可根據(jù)客戶(hù)需要定制多路氣路） 5、真空系統(tǒng)：分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S 6、真空測(cè)量：復(fù)合真空計(jì) 7、濺射電源：射頻電源 ×1；max輸出功率 500W-1000W 可選 8、膜厚儀：石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái)，分辨率0.10 ? 9、操作方式：一體機(jī)電腦操作
規(guī)格	尺寸：1090mm × 900mm × 1250mm；重量：350kg ；電壓：AC220V,50Hz；功率：6KW

免責(zé)聲明：本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容（包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等），僅供參考。泰諾公司產(chǎn)品在不斷更新，網(wǎng)站內(nèi)容可能由于更新不及時(shí)，或許導(dǎo)致所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異，請(qǐng)與本公司銷(xiāo)售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾，泰諾公司會(huì)不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知。